首页> 外文OA文献 >4. 超高真空電子顕微鏡・回折法によるSi(111)-7×7再配列表面のGe吸着構造の研究(東京工業大学理学部物理教室,修士論文題目・アブストラクト(1986年度),その2)
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4. 超高真空電子顕微鏡・回折法によるSi(111)-7×7再配列表面のGe吸着構造の研究(東京工業大学理学部物理教室,修士論文題目・アブストラクト(1986年度),その2)

机译:4.用超高真空电子显微镜/衍射法研究Si(111)-7×7重排表面上Ge的吸附结构(东京工业大学物理系,硕士论文/摘要(1986年),第2部分)

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摘要

この論文は国立情報学研究所の電子図書館事業により電子化されました。
机译:该论文由美国国家信息学研究所的电子图书馆业务进行了数字化处理。

著录项

  • 作者

    梶山 構成;

  • 作者单位
  • 年度 1987
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 ja
  • 中图分类

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