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High-temperature annealing behavior of deep levels in 1 MeV electron irradiated p-type 6H-SiC

机译:1 MeV电子辐照的p型6H-SiC中深能级的高温退火行为

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摘要

We report on the thermal stability of deep levels detected after 1 MeV electron irradiated p-type 6H-SiC. The investigation was performed by deep level transient spectroscopy, and an isochronal annealing series was carried out in the 373–2073 K temperature range. We found seven traps located between 0.23 and 1.3 eV above the valence band edge (EV). Two traps anneal out at temperatures below 1273 K, while the others display a high thermal stability up to 2073 K. The nature of the detected traps is discussed on the basis of their annealing behavior and previous data found in the literature.
机译:我们报告了在1 MeV电子辐照的p型6H-SiC之后检测到的深能级的热稳定性。研究是通过深层瞬态光谱学进行的,并且在373–2073 K的温度范围内进行了等时退火系列。我们发现七个陷阱位于价带边缘(EV)上方0.23至1.3 eV之间。两个陷阱在低于1273 K的温度下退火,而其他陷阱则表现出高达2073 K的高热稳定性。基于其退火行为和文献中的先前数据讨论了检测到的陷阱的性质。

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