机译:4H-SiC(0001)外延层中向内生长的堆叠缺陷的表征及其对高压肖特基势垒二极管的影响
机译:4H-SiC(0001)外延层中向内生长的堆叠缺陷的表征及其对高压肖特基势垒二极管的影响
机译:4H-SiC外延层中3C和6H向内生长缺陷的阱间耦合效应
机译:镜面电子显微镜无损观察4H-SiC外延层内生长缺陷
机译:在4H-SIC的快速外延生长中减少堆叠故障及其对高压肖特基二极管的影响
机译:通过电流-电压,电容-电压和内部光发射法测量的四个氢和六个氢碳化硅的(0001),(0001bar),(11bar00)和(12bar10)晶面的肖特基势垒。
机译:各种缺陷对4H-SiC肖特基二极管性能的影响及其与外延生长条件的关系
机译:4H-SiC外延层中(2,3(3))棒状堆垛层错的结构和电子表征