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Temperature dependence of exciton localization dynamics in InxGa1-xN epitaxial films

机译:InxGa1-xN外延膜中激子局部动力学的温度依赖性

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摘要

We have studied the temperature dependence of exciton localization dynamics in InxGa1–xN epitaxial films (x=0.09) by means of optical Kerr-gate time-resolved photoluminescence (PL) spectral measurements. During 30 ps after 150 fs laser excitation, the PL dynamics is sensitive to the measurement temperature. In the temperature range of 6–50 K, the PL rise time decreases and the PL peak energy shifts to higher energy with an increase of temperature. At high temperatures above 80 K, the thermal quenching of the PL at shallow localized states occurs. The energy relaxation processes of excitons in localized states of InxGa1–xN films are discussed.
机译:我们通过光学克尔门时间分辨光致发光(PL)光谱测量研究了InxGa1-xN外延膜(x = 0.09)中激子局部动力学的温度依赖性。在150 fs激光激发后的30 ps期间,PL动态对测量温度敏感。在6–50 K的温度范围内,PL的上升时间会减少,并且PL的峰值能量会随着温度的升高而向更高的能量转移。在高于80 K的高温下,PL在浅局部状态下发生热淬火。讨论了InxGa1-xN薄膜局部状态中激子的能量弛豫过程。

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