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【2h】

CONTROLE SPECTROPHOTOMETRIQUE LARGE BANDE DE FILTRES INTERFERENTIELS EN COURS DE DEPOT

机译:沉积过程中干扰物的宽带宽带分光光度控制

摘要

Wide Band Optical Monitoring for thin film thickness control during process deposition is demonstrated with a reflectance and transmittance optical set up
机译:通过反射率和透射率光学装置演示了用于在工艺沉积过程中控制薄膜厚度的宽带光学监控

著录项

  • 作者

    Badoil B.;

  • 作者单位
  • 年度 2007
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 fr
  • 中图分类

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