机译:在电阻加热水平热壁反应器中通过CVD生长的3C-SiC薄膜的氮掺杂
机译:热壁沉积生长的分子有序三(8-羟基喹啉)铝薄膜
机译:CuI热壁沉积法制备CuInSe {sub} 2薄膜的性能
机译:水平热壁CVD反应器中碳化硅膜的外延沉积
机译:通过热壁化学气相沉积法生长的同质外延4H-碳化硅(1120)薄膜的界面上的多型稳定性,微观结构演变和杂质
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:射频增强等离子体化学气相沉积(RF pECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性质和沉积速率的影响
机译:自动流动电池电沉积系统用于电化学原子层外延形成CdTe薄膜的初步研究