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THE ELECTROLESS PLATING SYSTEM AND THE MICROSTRUCTURE AND ELECTRICAL PROPERTIES OF ELECTROLESSLY DEPOSITED THIN METAL FILMS.

机译：化学镀体系和化学镀薄金属膜的微观结构和电学性能。

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Dept. of Physics. Paper copy at Leddy Library: Theses u26 Major Papers - Basement, West Bldg. / Call Number: Thesis1974 .C36. Source: Dissertation Abstracts International, Volume: 36-02, Section: B, page: 0797. Thesis (Ph.D.)--University of Windsor (Canada), 1975.

机译：物理系。莱迪图书馆的纸质副本：论文主要论文-西楼地下室。 /电话号码：Thesis1974 .C36。资料来源：国际论文摘要，第36卷，第B节，第0797页。论文（博士学位）-温莎大学（加拿大），1975年。

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作者
CHOW SHUI-LEE.;
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年度 1975
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