首页> 外文OA文献 >Fabrication of Lithographically-defined Optical Coupling Facets for SOI Waveguides by ICP Etching
【2h】

Fabrication of Lithographically-defined Optical Coupling Facets for SOI Waveguides by ICP Etching

机译:通过ICP刻蚀制造SOI波导的光刻定义的光学耦合面

摘要

Peer reviewed: No
机译:同行审查:否

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号