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Analysis of electrodeposited CdTe thin films grown using cadmium chloride precursor for applications in solar cells

机译:使用氯化镉前体生长的电沉积CdTe薄膜的分析,用于太阳能电池

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摘要

Deposition of cadmium telluride (CdTe) from cadmium chloride (CdCl2) and tellurium oxide has been achieved by electroplating technique using two-electrode configuration. Cyclic voltammetry shows that near-stoichiometric CdTe is achievable between 1330 and 1400 mV deposition voltage range. The layers grown were characterised using X-ray diffraction (XRD), UV–Visible spectrophotometry, scanning electron microscopy (SEM), energy-dispersive X-ray analysis (EDX), photoelectrochemical (PEC) cell and DC conductivity measurements. The XRD shows that the electrodeposited CdTe layer is polycrystalline in nature. The UV–Visible spectrophotometry shows that the bandgap of both as-deposited and heat-treated CdTe films are in the range of (1.44–1.46) eV. The SEM shows grain growth after CdCl2 treatment, while, the EDX shows the effect of growth voltage on the atomic composition of CdTe layers. The PEC results show that both p- and n-type CdTe can be electrodeposited and the DC conductivity reveals that the high resistivity is at the inversion growth voltage (Vi) for the as-deposited and CdCl2 treated layers.
机译:已经通过使用两电极构造的电镀技术实现了从氯化镉(CdCl2)和氧化碲中沉积碲化镉(CdTe)。循环伏安法表明,在1330至1400 mV的沉积电压范围内可获得接近化学计量的CdTe。使用X射线衍射(XRD),紫外可见分光光度法,扫描电子显微镜(SEM),能量色散X射线分析(EDX),光电化学(PEC)电池和直流电导率测量来表征生长的层。 X射线衍射表明,电沉积的CdTe层本质上是多晶的。紫外可见分光光度法表明,沉积后的CdTe薄膜和热处理过的CdTe薄膜的带隙都在(1.44-1.46)eV范围内。 SEM显示CdCl2处理后晶粒的生长,而EDX显示生长电压对CdTe层原子组成的影响。 PEC结果表明,p型和n型CdTe均可被电沉积,并且直流电导率表明,高电阻率处于沉积生长的CdCl2处理层的反型生长电压(Vi)处。

著录项

  • 作者

    Ojo A. A.; Dharmadasa I;

  • 作者单位
  • 年度 2017
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 en
  • 中图分类

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