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Crecimiento de capas dopadas tipo p de SiGe sobre Siudmediante epitaxia en fase sólida para su aplicación en laudfabricación de detectores de infrarrojo lejano

机译：Si ud上的SiGe p掺杂层的生长使用固相外延在金属上应用远红外探测器的制造

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Rodríguez Domínguez Andrés;
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年度 1997
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