机译:靶距和溅射压力对AlN薄膜合成的影响
机译:衬底-靶距和溅射压力对AlN薄膜合成的影响
机译:基质 - 靶距离对Ga和(Al Plus Ga)结构和光学性质的影响 - 通过射频溅射沉积的涂覆的ZnO薄膜
机译:基材 - 目标距离对由反应性DC磁控溅射沉积从马赛克靶沉积的TiCrn膜结构的影响
机译:等离子体能量,等离子体功率,工作距离和惰性气体压力对溅射热弹性钛镍薄膜组成的影响。
机译:磁控溅射对CdTe薄膜微结构光学和电学性质的基靶距离调节
机译:基质 - 靶距离和Si共掺杂对磁控溅射沉积的铝锌膜性能的影响
机译:基体组成对反应溅射alN薄膜压电响应的影响;薄固体薄膜