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【2h】

Vertical conduction properties of few-layer epitaxial graphene / n-type 4H-SiC heterojunctions at cryogenic temperatures

机译:低温下几层外延石墨烯/ n型4H-SiC异质结的垂直导电特性

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摘要

Vertical diodes of epitaxial graphene on n 4H-SiC were investigated. The graphene Raman spectraexhibited a higher intensity in the G-line than the 2D-line, indicative of a few-layer graphene film.Rectifying properties improved at low temperatures as the reverse leakage decreased over six ordersof magnitude without freeze-out in either material. Carrier concentration of 10 16 cm 3in the SiCremained stable down to 15 K, while accumulation charge decreased and depletion width increasedin forward bias. The low barrier height of 0.08 eV and absence of recombination-induced emissionindicated majority carrier field emission as the dominant conduction mechanism.
机译:研究了n 4H-SiC上外延石墨烯的垂直二极管。石墨烯拉曼光谱在G线中的强度高于2D线,表明存在几层石墨烯膜。在低温下,由于两种材料中的反向泄漏量降低了六个数量级而没有冻结,因此整流性能得到了改善。 SiC中的10 16 cm 3载流子浓度在低至15 K时仍保持稳定,而在正向偏压下,累积电荷减少,耗尽层宽度增加。 0.08 eV的低势垒高度和没有重组诱导的发射表明多数载流子场发射是主要的传导机制。

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