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【2h】

A Novel Self-aligned and Maskless Process for Formation of Highly Uniform Arrays of Nanoholes and Nanopillars

机译：一种新型的自对准和无掩模工艺，用于形成高度均匀的纳米孔和纳米柱阵列。

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Wei Wu; Dibyendu Dey; Omer G. Memis; Alex Katsnelson; Hooman Mohseni;
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年度 2008
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机译：一种新型的自对准和无掩模工艺用于形成高度均匀的纳米孔和纳米柱阵列。
7. A Novel Self-aligned and Maskless Process for Formation of Highly Uniform Arrays of Nanoholes and Nanopillars [O] . Wu, Wei, Dey, Dibyendu, Memis, Omer G, 2008

机译：一种新型的自对准和无掩模工艺，用于形成高度均匀的纳米孔和纳米柱阵列。

A Novel Self-aligned and Maskless Process for Formation of Highly Uniform Arrays of Nanoholes and Nanopillars

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