机译:PECVD SiOxNy介电层结构性能与Si / SiOxNy / Al电容器界面电性能的相关性
机译:等离子增强化学气相沉积SiOxNy / n-GaAs金属-绝缘体-半导体系统的界面特性
机译:常压氮等离子体形成的纯Ge_3N_4介电层的结构分析和电性能
机译:大气压超高频等离子体制备的高速沉积微晶硅膜的表征
机译:在等离子体增强原子层沉积制备的金属氧化物/氧化物界面处的光诱导电荷转移。
机译:常压等离子体氧化氮化制备的Si上SiOxNy层的界面特性
机译:开尔文力显微镜表征通过调谐硅环境在脉冲等离子体增强化学气相沉积过程中沉积的薄a-SiOxNy:H层中的电荷效应
机译:立方碳化硅(3C siC):甲基三氯硅烷在氢气中热分解制备的单晶和多晶层的生长和性质