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【2h】

Atomic layer deposition of high-density Pt nanodots on Al2O3 film using (MeCp)Pt(Me)3 and O2 precursors for nonvolatile memory applications

机译：使用（MeCp）Pt（Me）3和O2前驱体在Al2O3膜上高密度Pt纳米点的原子层沉积，用于非易失性存储应用

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Shi-Jin Ding; Hong-Bing Chen; Xing-Mei Cui; Sun Chen; Qing-Qing Sun; Peng Zhou; Hong-Liang Lu; David Wei Zhang; Chen Shen;
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年度 2013
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