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Laser gain measurements at 193 nm in a small discharge cell containing ArF excimer laser gas mixtures

机译：在包含ArF准分子激光气体混合物的小型放电室中在193 nm处进行激光增益测量

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1. Laser gain measurements at 193 nm in a small discharge cell containing ArF excimer laser gas mixtures [J] . A.V. AZAROV, P.J.M. PETERS, K.-J. BOLLER Applied physics . 2008,第3a4期

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2. High-power gas-discharge excimer ArF, KrCl, KrF and XeCl lasers utilising two-component gas mixtures without a buffer gas [J] . Razhev A. M., Kargapoltsev E. S., Churkin D. S. Quantum electronics . 2016,第3期

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3. High-Power Gas-Discharge Excimer ArF, KrCl, KrF, and XeCl Lasers on Buffer-Gas Free Gas Mixtures [J] . A. M. Razhev, E. S. Kargapoltsev, D. S. Churkin Atmospheric and oceanic optics . 2016,第6期

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4. High-efficient discharge-pumped ArF (193 nm) excimer laser with a TPI thyratron as a high-voltage switch [C] . Alexander M. Razhev, Andrey A. Zhupikov, Dmitry S. Churkin International Conference on Lasers, Applications, Technologies . 2007

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机译：在包含ArF准分子激光气体混合物的小型放电室中在193 nm处进行激光增益测量
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