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机译:质子束写入结合电化学刻蚀法制备的硅基光子晶体
Zhiya Dang; Mark BH Breese; Gonzalo Recio-Sánchez; Sara Azimi; Jiao Song; Haidong Liang; Agnieszka Banas; Vicente Torres-Costa; Raúl Martín-Palma;
机译:结合聚焦离子束写入和离子束增强蚀刻的铌酸锂中的光子晶体
机译:自对准双向电化学刻蚀法制备的硅三维光子晶体结构自发控制硅纳米晶体
机译:通过质子束写入和反应离子刻蚀制备的全硅亚波长结构着色
机译:通过电化学蚀刻制备的三维硅基光子晶体
机译:用于全向光子晶体制造的双光束全息光刻方法的理论研究。
机译:采用质子束写入结合电化学蚀刻方法制备的硅基光子晶体
机译:形成蚀刻掩模的方法,制造三维结构的方法和制造三维光子晶体激光器件的方法
机译:利用单平面刻蚀掩模和深反应离子/等离子刻蚀制造三维光子晶体的方法
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