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机译:硅减压化学气相沉积外延层中非均匀砷分布的受控生长
M. Popadić; T. L. M. Scholtes; W. de Boer; F. Sarubbi; L. K. Nanver;
机译:Sih_4和Geh_4在减压化学气相沉积中外延生长Sige的解析模型
机译:大晶粒多晶硅模板上外延硅生长的热线化学气相沉积
机译:通过金属有机化学气相沉积外延生长碳化硅和氮化铝的层状结构。
机译:通过化学气相沉积在铜上可控制地将石墨烯从毫米大小的单层生长到多层
机译:硅还原化学气相沉积外延层中非均匀砷形态的可控生长
机译:使用热线化学气相沉积在低温下生长同质外延硅
机译:利用化学气相沉积系统低温生长硅外延层的方法
机译:化学气相沉积碳化硅同质外延生长过程中气相中的硅团簇解离
机译:气相生长装置的气相沉积方法和硅外延层
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