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【2h】

Formation of silicon nanostructures with a combination of spacer technology and deep reactive ion etching

机译：结合隔离技术和深反应离子刻蚀形成硅纳米结构

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Daniel CS Bien; Hing Lee; Siti Aishah Badaruddin;
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年度 2012
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4. Design and implementation of silicon-based optical nanostructures for integrated photonic circuit applications using Deep Reactive Ion Etching (DRIE) technique [C] . S. Selvarasah, R. Banyal, BDF. Casse, NSTI BioNano Conference and Trade Show . 2008

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