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【2h】

Effect of PVD process parameters on the quality and reliability of thin (10–30 nm) Al2O3 dielectrics

机译：PVD工艺参数对薄（10-30 nm）Al2O3电介质的质量和可靠性的影响

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Shibesh Dutta; Sivaramakrishnan Ramesh; Balakrishnan Shankar; Sundar Gopalan;
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年度 2011
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