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机译:反应磁控溅射制备掺ErZnO薄膜的磁性
Jing Qi; Daqiang Gao; Jinhong Liu; Wenge Yang; Qi Wang; Jinyuan Zhou; Yinghu Yang; Jianlin Liu;
机译:退火温度对脉冲直流反应磁控溅射制备ZnO:Al薄膜性能的影响
机译:Ce掺杂对DC反应磁控溅射制备的ZnO薄膜性能的影响
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:反应磁控溅射制备Er掺杂ZnO薄膜的磁性能
机译:可以切换两种磁通分布模式(平衡模式/非平衡模式)的磁控溅射设备,使用该设备和双模式磁控溅射设备形成无机成膜材料的膜的成膜方法,以及使用该装置在低温下形成膜的无机成膜材料的成膜方法
机译:可以将两种模式的磁通量分布(平衡模式/不平衡模式)从一种切换到另一种的磁控溅射装置,以及一种使用该装置由无机成膜材料形成膜的成膜方法,以及一种双模式磁控溅射装置及成膜方法,使用该装置由无机成膜材料在低温下成膜
机译:磁控溅射装置,用于使用该装置的无机薄膜材料的磁通量配置(平衡型/非平衡型)可切换成膜方法,以及用于非磁性薄膜的双型磁控溅射装置和成膜方法成型B
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