机译:〜(233)U在能量范围0.5
机译:从0.5到20 MeV测量〜(243)Am相对于〜(235)U的中子诱发裂变截面
机译:在E-n <20 MeV范围内的一次能量下,U-235的中子诱发裂变中迅速裂变中子的平均能量
机译:中子诱导的〜(205)T1,〜(204,206,207,208)Pb和209Bi的测量,在能量范围35-174 mev中使用准单元素中子
机译:在10、17、25和35 AMeV下的铜63 +钼92,100和在20 AMeV下的氖20 + --144,148,154的激发能沉积和裂变过程。
机译:蒙特卡洛计算能量范围为50–400 MeV的质子的EBT3和EBT-XD薄膜的质量阻止能力
机译:测量从0.5到20 MeV相对于235U的243Am的中子诱发裂变截面的测量