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【2h】

One-Step Mask Etching Strategy Toward Ordered Ferroelectric Pb(ZrTi)O Nanodot Arrays

机译：有序铁电Pb（ZrTi）O纳米点阵列的一步掩模刻蚀策略

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机译：有序铁电Pb（Zr 0.52 Ti 0.48 ）O 3 纳米点阵列的一步掩模刻蚀策略
2. Fabrication of Silicon Nanowires with Precise Diameter Control Using Metal Nanodot Arrays as a Hard Mask Blocking Material in Chemical Etching [J] . Jinquan Huang, Sing Yang Chiam, Hui Huang Tan Chemistry of Materials: A Publication of the American Chemistry Society . 2010,第13期

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3. Patterning of ferroelectric nanodot arrays using a silicon nitride shadow mask [J] . Hyung-Joon Shin, Je Hyuk Choi, Hee Jun Yang, Applied Physics Letters . 2005,第11期

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5. One-step fabrication of crystalline titanium dioxide nanotubular arrays and relevant temperature influences. [D] . Zhang, Jie. 2011

机译：晶体二氧化钛纳米管阵列的一步制造和相关的温度影响。
6. One-Step Mask Etching Strategy Toward Ordered Ferroelectric Pb(Zr0.52Ti0.48)O3 Nanodot Arrays [O] . Xiaoyan Zhang, Mengyang Kang, Kangrong Huang, 2015

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