机译:溶胶-凝胶法制备的主要取向为100/010/119的铁电BiNdTiO薄膜沉积在掺Nb的(011)SrTiO和(011)SrRuO /(011)SrTiO上
机译:溶胶-凝胶衍生的铁电Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)薄膜主要沉积在掺Nb的(011)SrTiO_3和(011)SrRuO_3 /(011)SrTiO_3上,且取向为100/010/119
机译:SrRuO_3覆盖的全外延铁电(Bi,La)_4Ti_3O_(12)/ Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3 /(Bi,La)_4Ti_3O_(12)三层薄膜的生长,结构和性能SrTiO_3(011)基板
机译:SrTiO_3(011)上全外延铁电三层(Bi,La)_4Ti_3O_(12)/ Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3 /(Bi,La)_4Ti_3O_(12)薄膜的形貌和微观结构
机译:(V011T06A010)溶液用于溶胶 - 凝胶工艺的效果对二氧化硅气凝胶的微观结构和吸附/解吸性能
机译:溶胶-凝胶衍生的铁电PLZT 7/65/35陶瓷薄膜和纤维的纳米加工,表征和电性能。
机译:SrTiO3上沉积的无铅铁电K0.5Na0.5NbO3薄膜的原子分辨界面结构
机译:用不同的离子电镀方法沉积在(011)100硅钢和不锈钢板的单晶的Ti薄膜的纹理形成
机译:srTiO(sub 3)(100)上的外延pb(Zr(sub x)Ti(sub 1(minus)x))O(sub 3)/ srRuO(sub 3)(x = 0,0.35,0.65)多层薄膜通过mOCVD和RF溅射制备mgO(100)和mgO(100)