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Influence of electron irradiation on optical properties of ZnSe thin films

机译:电子辐照对ZnSe薄膜光学性能的影响

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摘要

Zinc Selenide (ZnSe) thin films of 500 nm thickness were deposited by electron beam evaporation techniqueudand irradiated with 8 MeV electron beam for the doses ranging from 0 Gy to 1 kGy. Optical propertiesudwere studied for both irradiated and pristine samples using Ultraviolet-Visible spectrophotometer.udThe increase in electron dose tends to decrease in transmittance and increase in refractive index of thinudfilm. Irradiated thin film exhibits minimum of 67 % transmittance for 800 Gy with very high absorption ofudoptical energy at 550 nm wavelength. The samples irradiated  800 Gy tends to redeem the pristine properties.udOptical band gap for irradiated thin film were direct and in the range of 2.66 – 2.69 eV.
机译:通过电子束蒸发技术沉积500nm厚的硒化锌(ZnSe)薄膜,并用8MeV电子束辐照,剂量为0Gy至1kGy。使用紫外可见分光光度计研究了辐照样品和原始样品的光学性能。电子剂量的增加往往会降低薄膜的透射率并增加折射率。辐照的薄膜在800 Gy处的透射率最低为67%,并且在550 nm波长处吸收非常高的 puppuppy能量。 800 Gy辐照的样品倾向于恢复原始特性。 ud辐照薄膜的光学带隙是直接的,范围在2.66 – 2.69 eV之间。

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