机译:制备条件在常压(2 ... 50)10-4 Torr压力范围内对Mo-N真空电弧涂层的结构和相态的影响
机译:氮气压力,偏置电压和基材温度对阴极电弧PVD制备的Mo-N涂层相结构的影响
机译:制备条件对真空电弧Zr-Ti-Si-N涂层的相组成,结构和力学性能的影响
机译:沉积过程中受衬底偏压控制的真空电弧沉积纳米结构Mo-N涂层的结构相和应力状态
机译:氮气压力对真空电弧沉积Ti-Si-N涂层中硅含量的影响
机译:大气和低压条件下溶液前体等离子体喷涂工艺制备超疏水陶瓷涂层
机译:氮等离子体中HMDSO的大气压等离子体聚合开发基于有机硅的超疏水涂层
机译:真空ARC Mo-N涂层的结构相和应变状态
机译:氩气和氮气在不锈钢上在195°K和303°K的压力范围内吸附,压力范围为10至负8功率至10至负7次幂