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Pulsed Laser Deposited Nickel Doped Zinc Oxide Thin Films: Structural and Optical Investigations

机译:脉冲激光沉积镍掺杂氧化锌薄膜的结构和光学研究

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摘要

Structural and optical studies has been done on Nickel doped Zinc Oxide (NixZn1 – xO, x  0.03, 0.05 and 0.07 by weight) thin films prepared by pulsed laser deposition technique. The films are characterized by X-ray diffraction, Uv-vis spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy. We observed a slight red shift in the optical band gap in the NiZnO subsequent to Ni doping. This shift can be assigned due to the sp-d exchange interaction of Ni- d states with s and p-states of ZnO. Also X-ray photoelectron spectroscopy studies show that Ni has well substituted in + 2 oxidation state by replacing Zn2+.When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/31018
机译:通过脉冲激光沉积技术制备的掺镍氧化锌(NixZn1-xO,x≤0.03、0.05和0.07重量)薄膜已经进行了结构和光学研究。所述膜通过X射线衍射,Uv-可见光谱,X射线光电子能谱表征。我们观察到,Ni掺杂后,NiZnO中的光学带隙略有红移。可以归因于Ni-d状态与ZnO的s和p状态的sp-d交换相互作用。 X射线光电子能谱研究还表明,通过取代Zn2 +,Ni在+ 2氧化态中具有良好的取代效果。当引用本文时,请使用以下链接http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/31018

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