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AC Impedance Analysis of the Al/ZnO/p-Si/Al Schottky Diode: C-V Plots and Extraction of Parameters

机译:Al / ZnO / p-Si / Al肖特基二极管的交流阻抗分析:C-V图和参数提取

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摘要

In this research, we report on the measurement of the capacitance-voltage (C-V) characteristicsudAl / ZnO / p-Si / Al Schottky diode at room temperature and in dark condition fabricated by spray pyrolysisudprocess. C-V characteristics, within the range of frequencies 5 kHz-5 MHz, are investigated and microelectronicudparameters are extracted. Donor density and diffusion potential vary with frequency from 15 to 28ud1014 cm – 3, 0.21 to 0.45 V. Besides, the interface state density of Al /ZnO /pSi/Al Schottky is determinedudand found to be 1012 (eV cm²) – 1. Calculated at 1 MHz, the interfacial layer thickness and depletion layerudwidth are of 760 Å and 0.28 m.
机译:在这项研究中,我们报告了在室温和黑暗条件下通过喷雾热解/ ud工艺制造的电容-电压(C-V)特性 udAl / ZnO / p-Si / Al肖特基二极管的测量结果。研究了在5 kHz-5 MHz频率范围内的C-V特性,并提取了微电子超参数。施主密度和扩散势随频率从15到28 ud1014 cm – 3,从0.21到0.45 V变化。此外,确定的Al / ZnO / pSi / Al肖特基的界面态密度为 1010(eVcm²)。 – 1.以1 MHz计算,界面层厚度和耗尽层超宽分别为760Å和0.28 m。

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