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Influence of the SHI Irradiation on the XRD, AFM, and Electrical Properties of CdSe Thin Films

机译:SHI辐照对CdSe薄膜的XRD,AFM和电性能的影响

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摘要

Cadmium Selinide (CdSe) thin films prepared by thermal evaporation on glass substrates were irradiated with swift (100 MeV) Ni+7 ions at fluences of 1 × 1011 and 1 × 1012 cm – 2. The structural changes with respect to increasing fluence were observed by the means of X-ray diffraction (XRD). The modification in surface morphology and electrical properties has been analyzed as a function of fluence using XRD, AFM and I-V techniques. The AFM micrographs of irradiated thin films show the formation of small spherical grains and decrease in surface roughness with increasing fluence as well as I-V measurement revels that decrease in resistivity with increasing fluence.
机译:通过快速(100 MeV)Ni + 7离子以1×1011和1×1012 cm – 2的通量辐照在玻璃基板上热蒸发制备的硒化镉(CdSe)薄膜。观察到通量增加的结构变化。通过X射线衍射(XRD)。已经使用XRD,AFM和I-V技术分析了表面形貌和电特性随通量变化的变化。辐照薄膜的AFM显微照片显示,随着通量的增加,小球形颗粒的形成和表面粗糙度的降低;随着通量的增加,I-V测量值随电阻率的降低而降低。

著录项

  • 作者

    Singh R.; Srinivasan R.;

  • 作者单位
  • 年度 2016
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 en
  • 中图分类

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