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Retention Behaviour of MNOS Memory Devices with Embedded Si or Ge Nanocrystals – Computer Simulation

机译:具有嵌入式Si或Ge纳米晶体的MNOS存储设备的保留行为–计算机仿真

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摘要

The charge retention behaviour of MNOS structures with embedded Si or Ge nanocrystals are studied by computer simulation. It is obtained that the oxide thickness and the location of nanocrystlas affect the retention behaviour very strongly. The retention time changes from a few ms to several years.When you are citing the document, use the following link http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/35385
机译:通过计算机仿真研究了具有嵌入式Si或Ge纳米晶体的MNOS结构的电荷保留行为。可以看出,氧化物的厚度和纳米晶的位置非常强烈地影响了保留行为。保留时间从几毫秒更改为几年。当您引用该文档时,请使用以下链接http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/35385

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