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【2h】

Thermal annealing of colloidal monolayer at the air/water interface: a facile approach to transferrable colloidal masks with tunable interstice size for nanosphere lithography

机译:胶体单层在空气/水界面处的热退火:一种可迁移的胶体掩模的简便方法,其胶体尺寸可调,用于纳米球光刻

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