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【2h】

Impact of thickness of GaN buffer layer on properties of AlN/GaN distributed Bragg reflectors grown by metalorganic chemical vapor deposition

机译:GaN缓冲层厚度对通过金属有机化学气相沉积法生长的AlN / GaN分布布拉格反射器性能的影响

摘要

National Hi-Tech Research and Development Program of China 2006AA03Z409
机译:中国国家高技术研究发展计划2006AA03Z409

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