首页> 外文OA文献 >Electrodeposition of thin tantalum layers from ionic liquids and measurement of their electrical properties
【2h】

Electrodeposition of thin tantalum layers from ionic liquids and measurement of their electrical properties

机译:离子液体中钽薄层的电沉积及其电性能的测量

摘要

Diplomová práce je zaměřena na elektrodepozici tantalu z iontového roztoku 1-butyl-1- methylpyrrolidinium bis(trifluoromethylsulfonyl) imide, ([BMP]Tf2N) při 200°C a popis souvisejících přenosových a kinetických jevů na fázovém rozhraní iontového roztoku a pracovní elektrody. Práce obsahuje literární rešerši týkající se elektrodepozice tantalových vrstev z různých iontových roztoků s obsahem tantalových solí a zejména využití iontového roztoku ([BMP]Tf2N). Výsledky cyklické voltametrie, povrchové analýzy SEM a prvkové analýzy EDX jsou uvedeny včetně diskuze k získaným výsledkům. V práci byla prokázána existence MIS (kov-izolant-polovodič) struktury, tvořené izolantem z porézní aluminy a polovodivou vrstvou TaxOy. Elektrická vodivost a kapacita dané MIS struktury byly detailně studovány s využitím ampér-voltových IV a CV charakteristik. Výsledky cyklické voltametrie, impedančního měření a chronoamperometrie jsou podrobně diskutovány.
机译:毕业论文的重点是在200°C下从1-丁基-1-甲基吡咯烷鎓双(三氟甲基磺酰基)酰亚胺([BMP] Tf2N)的离子溶液中电沉积钽,并描述离子溶液和工作电极的相界面处的相关转移和动力学现象。该工作包含有关从含钽盐的各种离子溶液中电沉积钽层的文献研究,尤其是离子溶液([BMP] Tf2N)的使用。介绍了循环伏安法,表面SEM分析和EDX元素分析的结果,并对所得结果进行了讨论。这项工作证明了MIS(金属-绝缘体-半导体)结构的存在,该结构由多孔氧化铝制成的绝缘体和TaxOy的半导体层组成。使用安培伏特IV和CV特性详细研究了给定MIS结构的电导率和容量。详细讨论了循环伏安法,阻抗测量和计时电流法的结果。

著录项

  • 作者

    Svobodová Ivana;

  • 作者单位
  • 年度 2016
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 cs
  • 中图分类

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号