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H2プラズマスパッタリング法によるSi基板上への3C-SiC薄膜の作製に関する研究

机译:H2等离子体溅射法在Si衬底上制备3C-SiC薄膜的研究

摘要

九州工業大学博士学位論文 学位記番号:情工博乙第5号 学位授与年月日:平成10年3月25日
机译:九州工业大学博士论文学位:大津治白博5号授予日期:1998年3月25日

著录项

  • 作者

    園田 信夫;

  • 作者单位
  • 年度 1998
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 ja
  • 中图分类

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