Selective growth of metallic materials on clean and oxidized substrates.

摘要

Diplomová práce pojednává o studiu morfologie tenké vrstvy kobaltu na čistém Si(111) a na Si(111) s tenkou vrstvou oxidu křemičitého pomocí metod AFM a XPS. Je také studií selektivního růstu kobaltu na mřížkách vytvořených pomocí fokusovaného iontového svazku a elektronové litografie. Dále je zkoumán růst kovových materiálů (Fe, Co) na povrchovém oxidu vytvořeném na Ni3Al(111).