机译:球形光刻和金属辅助化学刻蚀制备高深宽比硅纳米结构及其润湿性
机译:通过等离子干法刻蚀和湿法化学刻蚀相结合的方法制造具有非常光滑和垂直侧壁的GaN基脊形波导
机译:通过使用化学镀金属和金属辅助蚀刻的全湿制造工艺制备用于质谱分析的纳米硅表面
机译:通过直接FIB写入和TMAH湿法化学刻蚀制造硅纳米结构
机译:通过聚焦离子束诱导的选择性混合和湿法化学蚀刻形成光通道波导:设计,制造和表征。
机译:异丙醇浓度和刻蚀时间对低电阻晶体硅晶片湿化学各向异性刻蚀的影响
机译:用原位TEM直接可视化基于溶液的纳米制作方法:化学湿法蚀刻和基于溶液的高纵横比纳米结构的清洁/干燥