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Development of complete on-wafer cryogenic characterization: S-parameter, noise-parameter and load-pull

机译:开发完整的晶圆上低温特性:S参数,噪声参数和负载牵引

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摘要

In this paper, we review recent progress at Georgia Tech's Microwave Application Group towards the development of complete cryogenic analysis techniques. This includes development of on-wafer cryogenic (I5K to 300K) S-parameter, Noise Parameter, and Load-Pull measurement techniques. These data are then used for detailed analysis of various device technologies for development of improved small and large signal models. Applications include optimization of transistor device technology for reduced temperature operation, development of cryogenic low-noise amplifiers, and reduced temperature power amplifier operation.
机译:在本文中,我们回顾了佐治亚理工学院微波应用小组在开发完整的低温分析技术方面的最新进展。这包括开发晶圆上低温(I5K至300K)S参数,噪声参数和负载拉力测量技术。然后将这些数据用于各种设备技术的详细分析,以开发改进的小信号模型和大信号模型。应用包括优化晶体管器件技术以降低温度工作,开发低温低噪声放大器和降低温度功率放大器工作。

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