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Simulation de l’effet de la température et les défauts sur les caractéristiques électriques des diodes à base de GaAs

机译:温度和缺陷对GaAs基二极管电学特性影响的仿真

摘要

La caractéristique capacité-tension (C-V) est une des techniques les plus importantes utilisées pour évaluer la qualité des semiconducteurs. C'est une méthode non-destructive de caractérisation, elle donne une perspicacité dans les composants (informations structurale et électrique). DLTS (Deep Level Transient Spectroscopy) est une autre technique fréquemment employée pour caractériser les défauts dans les semiconducteurs. Ces techniques sont basées sur la capacité ce que la donne une grande importance dans le domaine de semiconducteurs.udDans ce travail, Deux échantillons de GaAs de type p dopés au Si ont été déposés par MBE sur des substrats du semi-isolant GaAs orienté (211)A et (311)A pour former des diodes Schottky. (211) et (311) indiquent l'orientation cristallographique du substrat tandis que la lettre indique que la surface est terminée par des atomes Ga. Ils sont étudiés en utilisant la méthode C-V à différentes températures ainsi qu’avec la technique DLTS. Ces échantillons ont montré un comportement étrange des caractéristiques de capacité-tension et capacité-température. DLTS a indiqué l'existence de différents types de défauts dans les deux échantillons: Dans la structure (311)A, seulement des niveaux profonds des porteurs majoritaires (pièges de trous) ont été observé tandis que des niveaux profonds des deux types des porteurs (pièges de trous et électrons) ont été observé dans l’échantillon (211)A. Les caractéristiques C-V de l'échantillon (311)A ont montré une capacité différentielle négative (NDC) tandis que ceux de l'échantillon (211)A ont montré une sensibilité plus petite qu'habituelle à la tension.udAfin de relier ce comportement aux niveaux profonds observés, une simulation numérique complète est effectuée pour simuler les caractéristiques C–V et C-T dans l'absence et la présence de différents types de niveaux profonds en utilisant le logiciel SILVACO-TCAD. On a constaté que le phénomène de NDC dans l’échantillon (311)A est dû à la distribution non-uniforme d'un des niveaux accepteurs profonds tandis que la non-sensibilité de la capacité à la tension est liée à la compensation entre les niveaux accepteurs profonds et les niveaux donneurs profonds dans l’échantillon (211)A.
机译:电容-电压特性(C-V)是用于评估半导体质量的最重要技术之一。这是一种非破坏性的表征方法,它使您可以深入了解各个组件(结构和电气信息)。 DLTS(深层瞬态光谱法)是另一种经常用于表征半导体故障的技术。这些技术是基于其在半导体领域中的重要性的能力。 Ud在这项工作中,MBE将两个掺有Si的GaAs p样品沉积在半绝缘取向的GaAs( 211)A和(311)A形成肖特基二极管。 (211)和(311)表示衬底的晶体学取向,而字母表示表面被Ga原子封端,它们在不同温度下使用C-V方法以及DLTS技术进行了研究。这些样品显示出电容-电压和电容-温度特性的奇怪行为。 DLTS表示两种样品中存在不同类型的缺陷:在结构(311)A中,仅观察到大多数载流子(空穴陷阱)的深层,而两种载流子的深层(在样品(211)A中观察到空穴和电子陷阱)。样品(311)A的CV特性显示出负差分电容(NDC),而样品(211)A的CV特性则显示出低于通常的电压敏感性。在观察到的深层情况下,使用SILVACO-TCAD软件执行完整的数值模拟,以模拟不存在和存在不同类型深层情况下的C–V和CT特性。已经发现,样品(311)A中的NDC现象是由于深受主能级之一的不均匀分布而电压电容的非灵敏度与电极之间的补偿有关。样品中的深受体水平和深供体水平(211)A.

著录项

  • 作者

    Boumaraf Rami;

  • 作者单位
  • 年度 2015
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  • 正文语种 en
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