首页>
外文OA文献
>Исследование влияния технологических процессов изготовления интегральных микросхем на загрязнение кремниевых пластин примесями железа: реферат дипломной работы / Красицкая Юлия Александровна; БГУ, Физический факультет, Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники; науч. рук. Петлицкий А.Н.
【2h】
Исследование влияния технологических процессов изготовления интегральных микросхем на загрязнение кремниевых пластин примесями железа: реферат дипломной работы / Красицкая Юлия Александровна; БГУ, Физический факультет, Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники; науч. рук. Петлицкий А.Н.
展开▼
机译：研究集成电路制造工艺对铁杂质对硅片污染的影响：论文摘要/ Krasitskaya Julia Aleksandrovna; BSU，半导体与纳米电子物理系，物理学院；科学的手。佩特利茨基
