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Etching Effect On The Formation Of Silicon Nanowire Transistor Patterned By AFM Lithography.

机译:蚀刻对AFM光刻图形化的硅纳米线晶体管形成的影响。

摘要

Anisotropic etching of silicon has been widely used in fabrication of MEMS devices for many years. In this work, TMAH and KOH with IPA are used to etch silicon nanowire transistor patterns.udud
机译:多年来,硅的各向异性蚀刻已广泛用于MEMS器件的制造中。在这项工作中,带有IPA的TMAH和KOH用于蚀刻硅纳米线晶体管图案。

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