首页> 外文OA文献 >Rf-Mbe Growth Of Iii-Nitrides Heterostructures For Light Detecting Applications
【2h】

Rf-Mbe Growth Of Iii-Nitrides Heterostructures For Light Detecting Applications

机译:氮化物异质结构的Rf-Mbe生长用于光检测应用

摘要

Dalam penyelidikan ini, GaN p-n struktur homo, AlN/GaN struktur hetero,uddan AlxGa1-xN/GaN struktur hetero telah berjaya ditumbuhkan di atas substrat silikonud(Si) (111) menerusi epitaksi alur molekul plasma terbantu (MBE) untuk aplikasiudpengesan foto. Galium (7N) dan aluminium (6N5) dengan ketulenan yang tinggiudtelah digunakan dalam sel Knudsen dan nitrogen (7N) berketulenan tinggi telahuddibekalkan kepada frekuensi radio (RF) 13.56 MHz untuk menjana sumber spesisudnitrogen reaktif. Nilai tekanan nitrogen dan kuasa pelepasan masing-masingudditetapkan malar pada 1.5x10-5 Torr dan 300 W sepanjang projek ini. Morfologiudpermukaan, sifat-sifat struktur dan optik daripada semua sampel telah disiasat denganudmenggunakan pantulan belauan elektron bertenaga tinggi (RHEED), mikroskopudimbasan elektron (SEM), mikroskop imbasan electron pancaran medan (FESEM),udmikroskop electron transmisi (TEM), mikroskop daya atom (AFM), belauan sinar-Xudberesolusi tinggi (XRD-HR), fotoluminesen (PL), dan spektroskopi Raman, masing-masing.ududIn this research work, GaN p-n homostructures, AlN/GaN heterostructures,udand AlxGa1-xN/Ga heterostructures were successfully grown on silicon (Si) (111)udsubstrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy (MBE) for photodetectorudapplications. High purity gallium (7N) and aluminum (6N5) were used in theudKnudsen cells and high purity nitrogen (7N) was supplied to 13.56 MHz radioudfrequency (RF) source to generate reactive nitrogen species. The nitrogen pressureudand discharge power values were kept constant at 1.5x10-5 Torr and 300 W duringudthis project, respectively. The surface morphology, structural and optical propertiesudof all the samples were investigated by using reflection high energy electronuddiffraction (RHEED), scanning electron microscopy (SEM), field emission scanningudelectron microscopy (FESEM), transmission electron microscopy, atomic forceudmicroscopy (AFM), high-resolution X-ray diffraction (HR-XRD),udphotoluminescence (PL), and Raman spectroscopy, respectively.
机译:在这项研究中,通过辅助等离子体分子流(MBE)在硅衬底(ud)(Si)(111)上成功生长了GaN纯合结构,AlN / GaN异质结构和AlxGa1-xN / GaN异质结构查找照片。高纯度(7N)和铝(6N5)已用于Knudsen电池,高纯度氮气(7N)已提供给13.56 MHz的射频(RF),以产生反应性天然气源。在整个项目中,氮气压力值和放电功率设置为1.5x10-5 Torr和300 W.使用高能电子衍射(RHEED),扫描电子显微镜(SEM),透射电子束扫描(FESEM)显微镜,透射电子显微镜(TEM)对所有样品的表面形态,结构和光学性质进行了研究。 ),原子力显微镜(AFM),高X射线衍射(XRD-HR),光致发光(PL)和拉曼光谱法。 ud ud在这项研究工作中,GaN pn均质结构,AlN / GaN通过等离子体辅助分子束外延(MBE)成功地在硅(Si)(111) ud衬底上生长AlxGa1-xN / Ga异质结构,用于光电探测器ud应用。 udKnudsen电池中使用了高纯度的镓(7N)和铝(6N5),并将高纯度的氮(7N)提供给13.56 MHz的射频(RF)源,以生成活性氮。在该项目期间,氮气压力和排放功率值分别保持恒定在1.5x10-5 Torr和300 W.通过高能电子反射超衍射(RHEED),扫描电子显微镜(SEM),场发射扫描电子显微镜(FESEM),透射电子显微镜,原子力研究了所有样品的表面形态,结构和光学性质 ud紫外显微镜(AFM),高分辨率X射线衍射(HR-XRD),紫外光致发光(PL)和拉曼光谱。

著录项

  • 作者

    Mohd Yusoff Mohd Zaki;

  • 作者单位
  • 年度 2016
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种
  • 中图分类

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号