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Chemical vapor deposition of low reflective cobalt (II) oxide films

机译:低反射氧化钴(II)薄膜的化学气相沉积

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摘要

Low reflective CoO coatings are processed by chemical vapor deposition from Co2(CO)8at temperatures between 120◦C and 190◦C without additional oxygen source. The optical reflectivity in the visible and near infrared regions stems from 2 to 35% depending on deposition temperature. The combination of specific microstructural features of the coatings, namely a fractal “cauliflower” morphology and a grain size distribution more or less covering the near UV and IR wavelength ranges enhance light scattering and gives rise to a low reflectivity. In addition, the columnar morphology results in a density gradient in the vertical direction that we interpret as a refractive index gradient lowering reflectivity further down.The coating formed at 180◦C shows the lowest average reflectivity (2.9%), and presents an interesting deep black diffuse aspect.
机译:低反射性CoO涂层是通过在120ºC至190ºC之间的温度下从Co2(CO)8进行化学气相沉积而制得的,而无需使用其他氧气源。可见光和近红外区的光学反射率取决于沉积温度,范围为2%至35%。涂层的特定微结构特征(即分形的“花椰菜”形态和或多或少覆盖近UV和IR波长范围的粒度分布)的结合会增强光散射并导致低反射率。此外,柱状形态导致垂直方向的密度梯度,我们将其解释为折射率梯度,从而进一步降低了反射率。在180°C形成的涂层显示出最低的平均反射率(2.9%),并且呈现出有趣的深层黑色弥漫的方面。

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