机译:第42届有机合成研讨会(2010年)-化学技术的变化时代-标题研讨会分别于2010年10月27日(星期三)和28日(星期四)举行,为期两天(德国)大阪市工业研究所它在大型礼堂举行,有43人参加。在本次研讨会中,支持有机合成,氧化反应,光学活性物质生产,药物工艺开发,工艺化学的当前和未来前景,分子电子,液晶有机半导体,有机n型半导体,染料的有机分子催化剂的工业化专注于敏化太阳能电池的开发,自组织空间中的未来化学等方面,在该领域的前线发挥积极作用的三名大学教授,四家公司和产业研究。我们由Tokoro等政府部门的三人讲课。参加者对聆听和
机译:粉末涂料研究小组(竹内学会主席,秘书处=日本粉末涂料合作社)将于今年6月15日下午1点15分在东京都品川区东大井大井町Kuriane举行第三次研讨会。它通过聚集50个成员而打开。大型石油公司Attec Japan GMF Division的Shigenori Nakane先生在“关于无磷和无铬粉末涂料化学处理剂的提案”中介绍了该公司基于脱磷酸的化学处理剂。介绍。 “ Interlox 338”不含六价铬和磷酸盐,“ 5705”不含铬和磷酸盐。
机译:粉末涂料研究会(董事长Takeshi,秘书处=日本粉末涂料合作社)今年的第三次研讨会是从6月15日下午1:15,东京大约50名成员的东京托伊岛托伊岛托伊瓦岛 - 奥地川 - 议员被收集并开放。 在“用于涂料处理的非磷和非铬基粉末涂料的提议”引入。 “幕间调338”不含6%铬和磷酸盐,“5705”不含铬和磷酸盐。
机译:用丙烯酰氨基醇和丙烯酰氨基酸结构的光学活性热响应聚合物的合成与不对称识别
机译:利用大环菲咯啉-铜配合物的催化活性合成[3]轮烷,并利用[2]轮烷的穿梭行为评估取代基的大小
机译:使用过渡金属催化剂合成光学活性氨基酸和含杂多元素的多环化合物