机译:FLUENT用于热线化学气相沉积系统的热流研究,以确定在生长层表面达到的温度
机译:在低基板温度下通过等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积沉积的薄膜的机械和压阻特性
机译:沉积后退火温度对通过热线化学气相沉积制备的氮化硅电介质多层膜中嵌入的硅量子点的影响
机译:热丝化学气相沉积法制备碳纳米壁及其对基体加热温度和纤维温度的影响
机译:热线化学气相沉积低温外延硅生长过程中的表面演变:结构和电子性能
机译:通过热线化学气相沉积制备的低温薄膜硅太阳能电池
机译:等离子体增强化学气相沉积中薄膜硅逐层生长的原因
机译:使用计算流体动力学软件(fluent)确定热线化学气相沉积系统内部的气流模式
机译:衬底温度和氢稀释比对热线化学气相沉积法生长纳米硅薄膜性能的影响