Resolution Enhancement Techniques (RET) for Immersion Lithography

机译：浸没式光刻的分辨率增强技术（RET）

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LING MOH LUNG;
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年度 2010
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1. Effect of Resolution Enhancement Techniques on Aberration Sensitivities of ArF Immersion Lithography at 45 nm Node [J] . Yanqiu LI, Fei ZHANG Japanese Journal of Applied Physics. Part 1, Regular Papers, Brief Communications & Review Papers . 2007,第5A期

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2. Investigation of Resolution Enhancement by Using Interferometric Immersion Lithography with a Lloyd Mirror [J] . You JH, Park SW, Kang YM, Journal of the Korean Physical Society . 2009,第6期

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3. Lithographic resolution enhancement of a maskless lithography system based on a wobulation technique for flow lithography [J] . Kibeom Kim, Sangkwon Han, Jinsik Yoon, Applied Physics Letters . 2016,第23期

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