机译:关于光掩模表面上的光化辐射线的入射角如何影响通过剥离光刻法制造的刻度盘的角度误差的研究
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机译:GaMnAs合金中点缺陷分布的纳米尺度研究
机译:印刷亚100纳米功能的近场光刻
机译:用于光刻的DUV和EUV光掩模中非平面相和多层缺陷的快速仿真方法。
机译:早产室间隔缺损和畸形是病原拷贝数变异的独立预测因子:对293例神经发育障碍和/或多种先天性异常儿童的CGH阵列结果和表型特征的回顾性研究
机译:对水,羟基和羧基进行H / D交换的IR研究表明,亚纳米孔中的晶格缺陷正在缓慢扩散