机译:基于聚砜的非CA抗蚀剂,用于193 nm浸没式光刻:提高聚合物吸收率对灵敏度的影响
机译:基于酸催化缩醛化的环保负性抗蚀剂,用于193 nm光刻
机译:基于高性能含聚砜的聚合物的抗紫外线光刻胶
机译:敏感的基于聚砜的193纳米光刻技术
机译:基于断链机理的193 nm光刻技术探索非化学放大抗蚀剂。
机译:自上而下的193 nm紫外光解离质量分光光度法同时测定聚泛素链长度和拓扑
机译:基于脂环族丙烯酸酯聚合物的化学扩增的负性抗蚀剂,用于193-nm光刻。
机译:抗蚀技术与加工XII的进展。亚0.25微米光刻的193纳米硅烷化工艺的优化