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Processamento de moldes micro- e nanoestruturados para o crescimento de nanofios por meio de litografia de varredura por sonda

机译:使用探针扫描光刻处理用于纳米线生长的微结构和纳米结构模具

摘要

Neste trabalho, foram estabelecidas rotinas reprodutíveis para o processamento de padrões regulares em escala submicrométrica em filmes finos poliméricos utilizando a litografia de varredura por sonda (um dos modos de operação de um microscópio de varredura por sonda – SPM). Foram utilizadas sondas de silício para realizar as matrizes de furos no modo de aragem dinâmica (dynamic plowing). Após, a ponta foi trocada para a visualização das matrizes no modo de contato intermitente. As rotinas de padronização foram aplicadas em filmes finos de PMMA de diferentes pesos moleculares e espessuras, depositados por spin coating, otimizando estes dois parâmetros para a formação de máscaras na forma de grade de furos. O diâmetro e a profundidade dos furos e também a altura e largura das deformações aos seus arredores foram investigados em função da força de interação e do tempo de ação da sonda, bem como da espessura dos filmes e peso molecular dos polímeros. Uma vez otimizados os procedimentos básicos, as rotinas desenvolvidas foram aplicadas no processamento de moldes para o crescimento de arranjos regulares de nanofios de ZnO.
机译:在这项工作中,使用探针扫描光刻法(探针扫描显微镜的一种操作模式-SPM)建立了可重复使用的程序,用于处理聚合物薄膜中亚微米级的规则图案。硅探针用于在动态耕作模式下制作孔阵列。之后,将笔尖更改为以间歇接触模式查看矩阵。将标准化程序应用于通过旋涂沉积的不同分子量和厚度的PMMA薄膜,优化这两个参数以形成栅孔形式的掩模。研究了孔的直径和深度,以及孔周围变形的高度和宽度,它们是相互作用力和探针作用时间的函数,以及膜的厚度和聚合物的分子量的函数。一旦优化了基本程序,就可以将已开发的程序应用于模具加工中,以生长规则排列的ZnO纳米线。

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