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Etching of III-V Materials Determined by ICP-MS with Sub-Nanometer Precision

机译：用亚纳米级精度通过ICP-MS确定的III-V材料的蚀刻

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作者
Rip Jens; Cuypers Daniel; Arnauts Sophia; Holsteyns Frank; van Dorp Dennis; De Gendt Stefan;
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年度 2013
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