首页> 外文OA文献 >Studie van de oorsprong en impact van plasma schade aan laag dielectrisch constante materialen en oplossingen voor gebruik in geavanceerde interconnectie toepassingen.
【2h】

Studie van de oorsprong en impact van plasma schade aan laag dielectrisch constante materialen en oplossingen voor gebruik in geavanceerde interconnectie toepassingen.

机译:研究等离子体对低介电常数材料的破坏的起因和影响,以及用于高级互连应用的解决方案。

著录项

  • 作者

    Urbanowicz Adam;

  • 作者单位
  • 年度 2010
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种
  • 中图分类

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号